半导体裂片仪SMC2000

分享
微信
新浪微博
QQ
QQ空间
豆瓣网
百度贴吧
颜色 蓝灰
品牌 FUWEI
型号 SMC2000
18994321850
立即预约
产品详情技术参数

SMC系列裂片仪是一款可以精准、可靠并快速的获得样品截面的产品,他可以在一分钟内完成单个样品的裂解(包括切割目标的两侧),并确保样品拥有微米级的精度和极高的截面质量。产品配备的软件和算法,可以实现在半自动裂解过程中精确的完成对于样品的定位控制。


SMC2000系统制备的截面样品,以方便样品随后用扫描电子显微镜进行检测或其他需要的分析

SMC2000采用刻痕断裂微切割的专利工艺来制备截面样品,断裂沿着晶片的一个或两个正交切割矢量传播。


仪器精度

截面精度:±5微米,1西格玛

截面质量:自然断裂

技术:自然精密断裂

处理时间:1分钟


适用材料

硅晶片:任何标准的晶片材料,单芯片或封装芯片。

硅片类型:<100>

附加材料:砷化镓磷化铟、或者其他具有正交晶体矢量的单晶结构。

晶片样品厚度:高达2000微米

晶片样品尺寸:

max尺寸:80mm*15mm

min尺寸:2mm*1mm

合适尺寸:25mm*10mm

目标位置:除了距离侧边1mm的区域以外的任意位置

合适目标位置:尽可能靠近切割边缘,并与侧边对称


光学系统

光学显微镜包含连续变焦系统,可手动对焦,并含有长工作距离的物镜,高数值孔径

光学系统的分辨率为1.5微米。

显示器上的光学放大倍数取决于视频格式和缩放位置。

显示器对标准视频格式,分辨率为1280*960的视频放大倍数约为1000

制样效果图