*性能先进、适用于工厂、实验室、科研院所等领域;
*出色的软件软件和先进工艺组件,可对工艺参数进行精确控制;
*工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制;
*性能可靠、占地面积很小,安装和维护简便;
*提供极高的光刻胶灰化速度的同时,最大限度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中。
*应用于功率器件晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。去除光刻胶;晶圆打胶;湿法刻蚀前的晶圆清洁;去除SU-8;刻蚀钝化层;清洁和表面活化;化学微量分析中的低温材料灰化;过滤器和滤膜的清洁;精密设备、光学设备、光学镜头、光学器件清洁。
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