等离子除胶机

*性能先进、适用于工厂、实验室、科研院所等领域；

*出色的软件软件和先进工艺组件，可对工艺参数进行精确控制；

*工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制；

*性能可靠、占地面积很小，安装和维护简便；

*提供极高的光刻胶灰化速度的同时，最大限度的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中。

*应用于功率器件晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。去除光刻胶；晶圆打胶；湿法刻蚀前的晶圆清洁；去除SU-8；刻蚀钝化层；清洁和表面活化；化学微量分析中的低温材料灰化；过滤器和滤膜的清洁；精密设备、光学设备、光学镜头、光学器件清洁。